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授業科目名
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担当教官
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分子素子設計工学特論
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佐藤 哲也
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時間割番号
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単位数
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コース
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履修年次
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期別
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曜日
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時限
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| 401371 | 2 | (未登録) | 1 | 後期 | 火 | III |
| ［概要と目標］ | ||||||
| イオンビームは、イオンビーム蒸着法やイオン注入法などに代表されるように機能性材料の創製や、種々の表面分析手段として広範囲に応用されている。 極低エネルギーイオンビーム（100eV以下）蒸着法は、原子・分子レベルで薄膜を形成する手法の一つとして考えられており、生成する薄膜結晶中の欠損生成を押さえる観点から、重要な薄膜形成技術である。しかし極低エネルギーイオンと固体表面との相互作用は非常に複雑であり、イオンと固体との衝突自体が良く分かっていない。低速イオンと固体表面の衝突における、固体表面（金属、半導体、ファンデルワールス薄膜）の電子励起、二次イオン散乱、表面化学反応、クラスターイオンビーム薄膜形成法などを中心に講義する。 | ||||||
| ［必要知識・準備］ | ||||||
| 電子・原子・分子の衝突、固体物理に関する基礎知識。 | ||||||
| ［評価基準］ | ||||||
| 出席、およびレポートの成績により評価する。 | ||||||
| ［教科書］ | ||||||
| ［参考書］ | ||||||
| ［講義項目］ | ||||||
| 1. 表面・界面の構造と電子状態 2. 低速イオンと固体表面の衝突 3. イオンビーム工学 4. 低エネルギーイオンビームによる薄膜形成法 |
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