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授業科目名
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担当教員
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無機機器分析特論
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川久保 進／鈴木 保任
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時間割番号
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単位数
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コース
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履修年次
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期別
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曜日
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時限
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| 325620 | 2 | (未登録) | 1 | 前期 | 水 | II | ||||||||||||||||
| ［概要と目標］ | ||||||||||||||||||||||
| コンピューター関連の電子材料や情報記憶媒体の開発に代表されるように、新材料の開発において表面の構造や物理化学的な特性を計測、評価する表面分析の役割は大きい。学部の機器分析の講義では、試料全体を分析(バルク(bulk)分析)する方法を学習したが、本講義では、表面の分析法として、電子線やＸ線などをプローブ(probe)として用いる表面分析法を中心に原理、装置、特徴などを学習する。また、分析機器内で行なわれている信号 (データ) 処理の概要について学習する。機器分析センターに設置された分析装置の見学などを行う。 | ||||||||||||||||||||||
| [到達目標] | ||||||||||||||||||||||
| １．代表的な表面分析法の特徴を理解する。<BR>２．様々な分析課題に対して適切な表面分析法を選択し、分析結果を正しく評価できる力を養う。<BR>３．アナログ信号、デジタル信号 (離散信号) に対して行われる様々な処理方法について理解する。 | ||||||||||||||||||||||
| ［必要知識・準備］ | ||||||||||||||||||||||
| 学部で学んだ物理化学と分析化学の素養を必要とする。学部で使った参考書や教科書を用意し、必要なときに復習できるようにすること。 | ||||||||||||||||||||||
| ［評価基準］ | ||||||||||||||||||||||
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| ［教科書］ | ||||||||||||||||||||||
| (未登録) | ||||||||||||||||||||||
| ［参考書］ | ||||||||||||||||||||||
| (未登録) | ||||||||||||||||||||||
| ［講義項目］ | ||||||||||||||||||||||
| １．様々なプローブとそれによって得られる物質情報（１回）<BR>２．電子線を利用する分析<BR> ２．１ 電子顕微鏡(SEM/TEM)（２回）<BR> ２．２ 電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)（３回）<BR> ２．３ オージェ電子分光法(AES)（４回）<BR> ２．４ 電子線回折法(LEED、RHEED)他（５回）<BR>３．Ｘ線を利用する分析（Ｘ線光電子分光法, XPS）（６回）<BR>４．イオン線を利用する分析<BR> ４．１ 二次イオン質量分析法(SIMS)（７回）<BR> ４．２ ラザーフォード後方散乱分光法(RBS)他（８回）<BR>６．信号処理法<BR> ６．１ 信号処理の概要とアナログフィルター（９回）<BR> ６．２ デジタルフィルターの概要と多項式近似（１０回）<BR> ６．３ 領域変換 (フーリェ変換)（１１回）<BR> ６．４ ウェーブレット変換とアダマール変換（１２回）<BR>７．各種の分析装置の見学(１３回、１４回)<BR>８．総括評価（試験など）（１５回） | ||||||||||||||||||||||