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授業科目名
担当教員
薄膜計量学特論
近藤 英一
時間割番号
単位数
コース
履修年次
期別
曜日
時限
327725 2 (未登録) 1 後期 II
[概要と目標]
 薄膜は、電子材料、光学材料、また微細加工の素材として、ユビキタスナノプロセスの根幹を支える材料である。その厚さを測り制御することは薄膜製造の基本であるとともに、標準原器がなく開発途上の分野でもある。本構では、薄膜材料の厚さを測定する物理的原理とその応用について学ぶ。<BR> 基本的には講義形式で進めるが、受講人数に応じてゼミ形式(輪読形式)で進めることもある。薄膜の製造法を概観した後、主要な測定方法について概説する。本構では測定精度の高いエリプソメトリを中心に理解を図り、実際の測定上の課題について取り組む。
[到達目標]
薄膜の製造工程とマイクロプロセスを理解している<BR>いくつかの異なる膜厚の測定の原理を理解し、違いを説明できる<BR>薄膜の構造から反射偏光パラメータを計算できる<BR>反射偏光パラメータから薄膜の膜厚・屈折率を求めることができる
[必要知識・準備]
必須<BR>・基礎的な複素数の計算<BR><BR>望ましい<BR>・基礎的な電磁気学 電磁波の数学的表現<BR>・基礎的な光学理論 光の屈折・透過など
[評価基準]
No評価項目割合評価の観点
1小テスト/レポート 80  %与えられた課題に対する正誤、取り組み姿勢、レポート完成度 
2受講態度 20  %聴講姿勢、講義への参加の意欲 
[教科書]
  1. 配布資料による予定
[参考書]
  1. 藤原裕之, 分光エリプソメトリー 第2版, 丸善, ISBN:9784621083222
[講義項目]
第1回:ガイダンス(本構の到達目標、テーマ、授業の概要、進め方の議論)<BR>第2回:薄膜とは 薄膜の用途<BR>第3回:薄膜の製造方法 PVD法<BR>第4回:薄膜の製造方法 CVD法<BR>第5回:薄膜の物性と評価項目 <BR>第6回:電子光学装置による膜厚測定<BR>第7回:薄膜における光の反射と屈折<BR>第8回:光干渉式膜厚測定法<BR>第9回:偏光と薄膜<BR>第10回:エリプソメトリ(楕円偏光解析法)の原理<BR>第11回:エリプソメータの原理と構成<BR>第12回:エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出(実習)<BR>第13回:エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出(理論)<BR>第14回:エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出(ワークシート実習)<BR>第15回:段差計測法