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授業科目名
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担当教員
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薄膜計量学特論
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近藤 英一
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時間割番号
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単位数
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コース
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履修年次
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期別
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曜日
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時限
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| 327725 | 2 | (未登録) | 1 | 後期 | 火 | II | ||||||||||||
| ［概要と目標］ | ||||||||||||||||||
| 薄膜は、電子材料、光学材料、また微細加工の素材として、ユビキタスナノプロセスの根幹を支える材料である。その厚さを測り制御することは薄膜製造の基本であるとともに、標準原器がなく開発途上の分野でもある。本構では、薄膜材料の厚さを測定する物理的原理とその応用について学ぶ。<BR> 基本的には講義形式で進めるが、受講人数に応じてゼミ形式（輪読形式）で進めることもある。薄膜の製造法を概観した後、主要な測定方法について概説する。本構では測定精度の高いエリプソメトリを中心に理解を図り、実際の測定上の課題について取り組む。 | ||||||||||||||||||
| [到達目標] | ||||||||||||||||||
| 薄膜の製造工程とマイクロプロセスを理解している<BR>いくつかの異なる膜厚の測定の原理を理解し、違いを説明できる<BR>薄膜の構造から反射偏光パラメータを計算できる<BR>反射偏光パラメータから薄膜の膜厚・屈折率を求めることができる | ||||||||||||||||||
| ［必要知識・準備］ | ||||||||||||||||||
| 必須<BR>・基礎的な複素数の計算<BR><BR>望ましい<BR>・基礎的な電磁気学 電磁波の数学的表現<BR>・基礎的な光学理論 光の屈折・透過など | ||||||||||||||||||
| ［評価基準］ | ||||||||||||||||||
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| ［教科書］ | ||||||||||||||||||
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| ［参考書］ | ||||||||||||||||||
| ［講義項目］ | ||||||||||||||||||
| 第１回：ガイダンス（本構の到達目標、テーマ、授業の概要、進め方の議論）<BR>第２回：薄膜とは 薄膜の用途<BR>第３回：薄膜の製造方法 PVD法<BR>第４回：薄膜の製造方法 CVD法<BR>第５回：薄膜の物性と評価項目 <BR>第６回：電子光学装置による膜厚測定<BR>第７回：薄膜における光の反射と屈折<BR>第８回：光干渉式膜厚測定法<BR>第９回：偏光と薄膜<BR>第１０回：エリプソメトリ（楕円偏光解析法）の原理<BR>第１１回：エリプソメータの原理と構成<BR>第１２回：エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出（実習）<BR>第１３回：エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出（理論）<BR>第１４回：エリプソメトリによる膜厚と屈折率の算出（ワークシート実習）<BR>第１５回：段差計測法 | ||||||||||||||||||