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授業科目名
担当教官
量子材料システム工学特論
佐藤 哲也
時間割番号
単位数
コース
履修年次
期別
曜日
時限
327130 2 (未登録) 1 後期 II
[概要と目標]
次世代の高度機能材料の創製には、ナノサイエンスとナノテクノロジーを融合したナノ構造創製技術が求められている。ナノ構造材料の創製には、プラズを利用した成膜やエッチング技術が重要な役割を果たしている。プラズマの基礎、ナノ構造創製法、半導体薄膜創製法、分光計測法による薄膜・表面分析法について習得することを目標とする。
[必要知識・準備]
物理化学、無機化学、固体物理に関する基礎知識
[評価基準]
課題レポート(50点)および小テスト(50点)により評価する。
[教科書]
  1. プラズマエレクトロニクス, オーム社, ISBN:4274132102,
    (\2300(税別))
[参考書]
  1. プラズマ/プロセスの原理 (Principles of plasma discharges and materials processing), EDリサーチ社, ISBN:4901790056
  2. アモルファス半導体, 培風館, ISBN:4563036021
[講義項目]
1. プラズマプロセスの基礎と応用
2.アモルファス半導体(物性と合成法)
3.分光計測法(分光エリプソメトリー、電子スピン共鳴法)
4.量子材料創製法